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SOI波长信号分离器的研制 被引量:1

Fabrication of SOI Wavelength Demultiplexer
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摘要 根据大截面单模脊形波导理论和双模干涉机制,在硅片直接键合、背面抛光减薄的SOI材料上,通过氢氧化钾各向异性腐蚀的方法,成功地研制出SOI波长信号分离器,在波长为1.3μm时,其插入损耗为4.81dB,串音小于-18.6dB。 Silicon-on-Insulator (SOI) wavelength demultiplexers are studies by using thelarge cross-section single-mode rib waveguides conditions and the two-mode interferenceprinciple in silicon direct bonding SOI with bsck-polishing.They are fabricated by usingKOH anistropic etching. Their insertion loss are measured to be down to 4. 81 dB at thewavelength of 1. 3 μm, and crosstalk is less than - 18. 6 dB at 1. 3 μm.
出处 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第11期1598-1600,共3页 Acta Optica Sinica
关键词 集成光学 光通讯 光信号分离器 SOI, integrated optics, optical communications, opticaldemultiplexers.
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