投影曝光中图形的衍射花样

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摘要随着集成电路在几个平方毫米芯片内的集成度规模不断提高,图形的设计尺寸也越来越小.对于传统的投影曝光系统,欲保证曝光图形的保真度也越来越困难.这是因为图形失真的重要因素是光的衍射.

作者刘风岐

机构地区骊山微电子公司

出处《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1989年第4期36-38,共3页 Semiconductor Technology

关键词集成电路曝光图形衍射

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半导体技术

1989年第4期

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