摘要
本文阐述了脉冲辉光放电的特点，介绍了我们研制的等离子体表面处理用脉冲电源的原理、电路特点和脉冲离子渗氮应用情况。
同被引文献13
-
1吉国光,崔世林.BN-SiN薄膜陶瓷活塞环[J].汽车维修,2007(12):2-3. 被引量：1
-
2张永康.薄膜的相互扩散和反应[M]北京:国防工业出版社,198394-96.
-
3胡孝勇.气体放电及其等离子体[M]哈尔滨:哈尔滨工业大学出版社,199474-78.
-
4JINDRICH Musil,JAN Lestina. Pulsed dc Magnetron Discharge for High-rate Sputtering of Thin Films[J].Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films,2008,(02):420-425.
-
5LI F B,YANG Y,FAN Y Q,XING W H WANG Y. Modification of Ceramic Membranes for Pore Structure Tailoring:the Atomic Layer Deposition Toute[J].Journal of Membrane Science,2012,(07):17-23.
-
6QIU M H,FENG J,FAN Y Q,XU N P. Pore Evolution Model of Ceramic Membrane during Constrained Sintering[J].Materials Science,2009,(03):689-699.
-
7ANNEMIE B,ERIK N. Gas Discharge Plasma and Their Applications[J].Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy,2002.609-658.
-
8马康,王海燕,吴芳,卢景霄,郜小勇,陈永生.PECVD低温制备微晶硅薄膜的研究[J].人工晶体学报,2008,37(1):97-101. 被引量：15
-
9马壮,曲文超,李智超.AZ91D热化学反应热喷涂陶瓷涂层热震性研究[J].表面技术,2008,37(2):52-53. 被引量：14
-
10王师,阎殿然,李莎,高国旗,张志彬.活塞环表面处理技术的研究现状及发展趋势[J].材料保护,2009,42(7):50-52. 被引量：10
-
1张仕友,蒋锦江,张一云,赵庆昌,吴丽萍,陈仕国,白立新,徐家云.等离子体表面处理的正电子湮没研究[J].核电子学与探测技术,1996,16(4):303-306.
-
2杨孝龙,梁俊龙.大气环境中等离子体表面处理实验装置设计[J].宝鸡文理学院学报（自然科学版）,2002,22(1):43-45. 被引量：1
-
3刘杨,邸明伟.聚合物等离子体表面改性时效性的研究进展[J].粘接,2011,32(3):79-83. 被引量：4
-
4刘杨,陶岩,吕新颖,邸明伟.难粘高分子材料的等离子体表面处理研究进展[J].粘接,2010,31(4):70-74. 被引量：7
-
5汪亮洲.小模数齿轮的离子渗氮[J].金属热处理,2011,36(2):97-100. 被引量：1
-
6徐冰仲,葛建功.离子氮化及等离子表面处理用脉冲电源及其应用[J].中国铁道科学,1994,15(4):35-40. 被引量：4
-
7刘红武,王少华.PLC在X62W铣床改造中的应用设计[J].建材技术与应用,2007(11):25-26.
-
8阎牧夫,Y.Sun,T.Bell,刘志儒,夏立芳.La在脉冲离子渗氮表层中的扩散及其对氮分布和相结构的影响[J].金属学报,2000,36(5):487-491. 被引量：17
-
9魏荣华,李灿民.美国西南研究院等离子全方位离子镀膜技术研究及实际应用[J].中国表面工程,2012,25(1):1-10. 被引量：9
-
10王瑞祥.在感应淬火应用上并联振荡电路调谐探讨[J].工业加热,2004,33(6):45-47. 被引量：1
