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离子束微制作
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摘要
离子束微制作技术对甚大规模集成电路、超大规模集成电路或者未来量子效应器件的制作由于其独特性能而越来越起重要的作用。并且它具有广泛的用途,包括蚀刻、沉积、掺杂、材料合成和改性以及平印术。对于蚀刻,需要具有原子标度的精密度和最低的损伤诱发的技术。本文讨论了低能离子束的重要性及其新蚀刻技术,比如数字蚀刻的特性。
作者
Gamo.,K
罗治
出处
《国外核聚变与等离子体应用》
1995年第1期70-76,共7页
关键词
离子束
集成电路
半导体器件
VLSI
ULSI
分类号
TN405.982 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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国外核聚变与等离子体应用
1995年 第1期
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