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用符合弹性前冲法测量硅中的氧含量及其分布

Profiling of oxygen in silicon by coincident elastic recoil detection
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摘要 采用27MeV的12C5+作为入射粒子,采用符合弹性前冲方法测量了5.6μm的硅样品中氧的含量及其深度分布.实验结果表明,采用12C与16O符合弹性前冲方法分析硅样品中的氧,其最小探测限可达20×10-6(原子比),深度分辨率为~450nm.该方法对于厚样品,尤其比常规弹性前冲优越。 A coincident elastic recoil detection method for oxygen Profiling in silicon isdescribed. By using 12C as the incident particles, 12C and 16O from the same collision event are detected respectively in coincidence. From the obtained 16O energy spectrum, oxygen profile in the sample can be calculated. 27MeV 12C5+ particles are used and oxygen profile in 5.6μm silicon is measured.The results show that this method has a detection limit of about 20×10-6 (atomic)and a depth resolution of about 450nm in 5.6μm silicon. It is specially useful for profiling light elements in samples of about several microns.
出处 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 1995年第9期535-537,共3页 Nuclear Techniques
关键词 弹性前冲法 硅膜 含量 深度分布 Coincidence ERD Oxygen
  • 相关文献

参考文献3

  • 1韦伦存,J Radio Nucl Chem Lett,1994年,183卷,1期,55页
  • 2韦伦存,第五届电子束离子束学术年会论文集,1993年
  • 3Yang Xihong,Nucl Sci Tech,1992年,3卷,175页

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