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金刚石薄膜焊接在金属上的首次商业应用
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摘要
AT&T公司正在与几家化学汽相沉积(CVD)金刚石主要生产厂家一同工作,通过AT&T贝尔实验室发展的新技术,把合成金刚石焊接到金属上,并首次用于商业应用。
作者
Charles T.Troy
李玲
出处
《红外》
CAS
1995年第3期42-43,共2页
Infrared
关键词
金刚石
薄膜
焊接
金属
半导体激光器
热沉
分类号
O613.71 [理学—无机化学]
TN243 [电子电信—物理电子学]
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