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氯化铜溶液中多孔硅光致发光猝灭

A Study on the Photoluminescence of Porous Silicon in Copper Chloride Solution
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摘要 研究氯化铜溶液中多孔硅光致发光猝灭的机制.瞬态光致发光和傅里叶变换红外光谱表明钢-多孔硅界面电子态提供了非辐射复合的途径. A study is made on the photoluminescence quenching of porous silicon in copper chloride solution,laying emphasis on the mec anism. As shown by transient photoluminescence and ourier-transform infrared absorption, the localized electronic state at Cu/porous silicon interface provides a way of nonradiative recombination.
作者 郭亨群
出处 《华侨大学学报(自然科学版)》 CAS 1995年第2期141-144,共4页 Journal of Huaqiao University(Natural Science)
关键词 多孔硅 光硅发光猝灭 表面 界面 氯化铜 porous silicon,photoluminescence quenching,surface and interface,copper chloride
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