半导体器件生产中的化学清洗
摘要
本文介绍了半导体器件在生产过程中的几种化学清洗方法,并指出化学清洗是去除硅片表面有害杂质的有效方法.
参考文献6
-
1中国青年出版社.青年家用机械电器手册[M]中国青年出版社,1985.
-
2电子工业半导体专业工人技术教材编写组.半导体器件工艺[M]上海科学技术文献出版社,1984.
-
3电子工业半导体专业工人技术教材编写.半导体化学[M]上海科学技术文献出版社,1983.
-
4董盛福.洗涤剂常识[M]轻工业出版社,1982.
-
5乔冠儒.半导体工艺化学原理[M]江苏科学技术出版社,1979.
-
6第一机械工业部整流器研究所.可控硅整流器工艺设计手册[M]上海人民出版社,1972.
-
1邹继鑫,郭群英.化学清洗对硅-二氧化硅界面的影响[J].集成电路通讯,2000(3):1-3. 被引量：1
-
2何莉,闻星东.化学清洗改善超储存期片式开关的性能[J].电子工艺简讯,1993(9):12-12.
-
3Reed.,AH,叶云水.化学清洗与铜的弱腐蚀[J].电子工艺简讯,1989(7):11-13.
-
4真空蒸发、淀积、溅射、氧化与金属化工艺[J].电子科技文摘,2000(5):36-36.
-
5叶志镇,姜小波,袁骏,李剑光.超净硅片表面化学清洗工艺的优化研究[J].Journal of Semiconductors,1996,17(5):380-385. 被引量：8
-
6关宏武,段成龙,冯小强,宋伟峰,舒福璋.半导体化学清洗沾污来源分析[J].科技创新与应用,2014,4(4):285-285. 被引量：2
-
7中原捷雄,郑彩娟.细导线的形成[J].印制电路信息,1994,0(Z1):34-35.
-
8梁莹.带电清洗在电讯设备中的应用[J].湖北广播电视大学学报,2000,17(3):78-79.
-
9谢书银.硅片化学腐蚀及其在电力半导体器件中的应用[J].电力电子技术,1999,33(3):48-50. 被引量：6
-
10梁鸿卿.组装工艺中的等离子清洗技术[J].现代表面贴装资讯,2005,4(5):53-56.
