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光学干涉法同时测定二氧化硅薄膜折射率和厚度

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摘要本文利用二氧化硅薄膜的光学干涉效应和可变角度反射测量装置,给出了一种同时测定薄膜折射率和厚度的新方法.薄膜折射率和厚度的测量误差分别小于5%和6%.

作者何秀坤李光平王琴郑驹阎萍

机构地区机械电子工业部第四十六研究所

出处《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1989年第6期47-49,共3页 Semiconductor Technology

关键词光学干涉法二氧化硅薄膜厚度

分类号 TN304.07 [电子电信—物理电子学]

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半导体技术

1989年第6期

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