期刊文献+

沉积高品质金刚石薄膜的MWPCVD系统 被引量:1

MWPCVD System for High-quality Diamond Film Deposition
下载PDF
导出
摘要 建立了用于沉积高品质金刚石薄膜的微波等离子体化学气相沉积系统,并对该系统的工作性能进行了研究. The present paper covers a microwave plasma chemical vapour deposition system for the de-position of high-quality diamond films.Its working property is discussed.
出处 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1995年第2期60-62,共3页 Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Jilinensis
关键词 金刚石 薄膜 微波等离子体 化学气相沉积 diamond film, microwave plasma, chemical vapour deposition
  • 相关文献

参考文献2

  • 1王欲知,真空技术,1982年
  • 2郭硕鸿,电动力学,1979年

同被引文献2

  • 1顾长志.金刚石薄膜的制备及应用研究[M].长春:吉林大学物理系,1996..
  • 2金曾孙.金刚石薄膜的研究进展和展望[J].薄膜科学与技术,1995,(8):172-172.

引证文献1

二级引证文献2

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部