摘要
建立了用于沉积高品质金刚石薄膜的微波等离子体化学气相沉积系统,并对该系统的工作性能进行了研究.
The present paper covers a microwave plasma chemical vapour deposition system for the de-position of high-quality diamond films.Its working property is discussed.
出处
《吉林大学自然科学学报》
CAS
CSCD
1995年第2期60-62,共3页
Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Jilinensis