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出处 《中国档案》 北大核心 2005年第8期47-47,共1页 China Archives
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参考文献2

二级参考文献3

  • 1Renau Anthony, Hacker David. The ⅦSta 810300mm Medium Current Ion Implanter [A].1998 International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings[ C]. Kyoto(Japan):The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc(IEEE), 1998.
  • 2Meulen Pvan der, Ammon F. The ES00- A New Medium Current-High Energy Implanter [A].1992 International Conference on Ion Implantation Technology Proceeding [C]. Gainsville: The Institute of Electrical and Electronics Engineers,Inc(IEEE), 1993.
  • 3Oison J C, Renau A, Buff J. Scanned Beam Uniformity Control in the ⅥSSta 810 Ion Implanter [A]. International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings[C]. Kyoto(Japan):The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc(IEEE), 1998.

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