化学气相沉积设备

一种用于在基质的整个范围内气相沉积均匀薄膜的化学气相沉积设备。所述化学设备气相沉积设备包括一个与外部隔绝并保持真空的反应室；一个旋转地安装于所应室内并放有至少一片基质的基座；和一个注射器，其包括独立形成的第一和第二气体通道，以及在各自入口处连接各自气体通道的用于将各自的第一和第二气体注射到基座上的第一和第二气体注射管，所述注射器独立注射不同的气体。