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STS推出一款适用于深硅刻蚀的应用的新产品
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摘要
总公司位于英国韦尔斯New Port的Surface Technology Systemsplc(STS)日前宣布其新产品“Pegasus”的全新离子反应式深硅刻蚀机,可以将硅刻蚀的制程最佳化,更可大幅改善制程能力的稳定度及机台的可信赖度。长久以来,STS一直在微机电系统及其它相关的制程中所需的深硅刻蚀制程技术居于大幅领先的地位。
出处
《集成电路应用》
2005年第8期21-21,共1页
Application of IC
关键词
硅
刻蚀工艺
半导体器件
深硅刻蚀制程技术
STS公司
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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被引量:3
集成电路应用
2005年 第8期
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