四大公司联手研发纳米光刻技术目标为线宽22纳米
出处
《科技资讯》
2005年第22期2-2,共1页
Science & Technology Information
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1四大公司联手研制纳米光刻技术目标为线宽22nm[J].光学仪器,2005,27(4):68-68.
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2四大公司联手研发纳米光刻技术,目标为线宽22nm[J].机床与液压,2006(4):105-105.
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3纳米光刻技术[J].光学精密机械,2005(4):38-38.
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4刘伟,丁志杰.4G移动通信系统的研究进展与关键技术[J].中国无线电,2004(1):43-45. 被引量：2
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5田春阳,刘泉,梁学俊.第四代移动通信IP网络关键技术[J].武汉理工大学学报（信息与管理工程版）,2005,27(5):112-115. 被引量：4
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6许秋华,张志强.4G移动通信系统及其关键技术[J].大众科技,2009,11(9):11-12. 被引量：5
-
7李志.3GPPLTE的关键技术与应用优势[J].中国电子商务,2013(16):34-34.
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8何淑贞,王日远.GPRS——走向第三代移动通信的重要一步[J].中国数据通信,2000,2(11):16-20.
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9刘国.浅析4G移动通信系统中的关键技术[J].电子世界,2014(24):250-250.
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10刘伟,丁志杰.4G移动通信系统的研究进展与关键技术[J].中国数据通信,2004,6(2):8-12. 被引量：45
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