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消除电子诱导离子脱附误差的超高真空压强测量(四)

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摘要 第七章分压强真空计当用质谱计分析超高真空内的残余气体肘,在质谱计中也常出现由于 EID 产生的假峰。不过,这种假峰可以用对质谱计离子流调制的方法加以消除。在这一章中,将讨论MIC 规系统用于离子源的设计原理和质谱计结构。
作者 吕联亨
出处 《真空电子技术》 北大核心 1989年第2期53-57,共5页 Vacuum Electronics
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