批量生产三维光子晶体

加拿大与美国研究人员研究出一种用位相掩模基光刻制造术堆型三维光子晶体的方法。他们将光致抗蚀剂对以两个位相掩模产生的干涉样曝光，制造具有四角形或立方对称的微结构材料。利用此种电子工业的标准工具，可望导致三维光子晶体的批量生产，供集成光路之类元件应用。