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电弧源喷射微粒及膜沉积率空间分布 被引量:1

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摘要 测量了冷阴极电弧源镀膜时膜沉积率及源喷出的微粒空间分布。为了获得最大沉积率及减少膜层中微粒,给出了工件最佳工作位置选择。
机构地区 兰州物理研究所
出处 《真空与低温》 1989年第4期3-5,共3页 Vacuum and Cryogenics
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