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电弧源喷射微粒及膜沉积率空间分布
被引量:
1
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摘要
测量了冷阴极电弧源镀膜时膜沉积率及源喷出的微粒空间分布。为了获得最大沉积率及减少膜层中微粒,给出了工件最佳工作位置选择。
作者
张世良
陈鹏
洪惠荫
胡永年
孙玉珠
任妮
翟晓明
机构地区
兰州物理研究所
出处
《真空与低温》
1989年第4期3-5,共3页
Vacuum and Cryogenics
关键词
离子镀膜
涂复设备
沉积
分类号
TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]
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0
引证文献
1
二级引证文献
0
引证文献
1
1
任妮,王剑屏.
磁过滤电弧离子镀技术[J]
.真空科学与技术,1999,19(A10):111-116.
1
洪惠荫,胡永年,张世良,孙玉珠,任妮,瞿晓明.
LSA—1型电弧离子镀膜机[J]
.真空与低温,1989,8(4):6-7.
真空与低温
1989年 第4期
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