期刊文献⁺

任意字段

题名或关键词

题名

关键词

文摘

作者

第一作者

机构

刊名

分类号

参考文献

作者简介

基金资助

栏目信息

美国Cymer将发布面向液浸曝光的高功率激光设备

下载PDF

导出

摘要美国Cymer公司将在“2005年国际半导体设备与材料展览会（SEMICON West 2005）”上，发布面向45nm工艺（hp65）液浸曝光的高功率ArF准分子激光设备“XLA 300”。

出处《机电工程技术》 2005年第8期9-9,共1页 Mechanical & Electrical Engineering Technology

关键词激光设备高功率曝光面向发布美国半导体设备 2005年展览会

分类号 TS734.7 [轻工技术与工程—制浆造纸工程] TB852.1 [一般工业技术—摄影技术]

引文网络
相关文献

1施琦.浅析中小型激光设备外观设计要素[J].科技与生活,2010(23):154-154.
2纳米技术对环境和人类健康或存巨大危害[J].广西科学院学报,2011,27(2):131-131.
3杨晓婵.2004年第3季度世界硅片出厂情况[J].现代材料动态,2005(2):13-13.
4Overload.找回我的照片[J].电脑高手,2005(2):101-101.
5亚洲地区前道工序工厂新建计划[J].半导体行业,2005(4):54-55.
6王斌.真空泵的市场展望[J].通用机械,2004(5):82-84.
7霍尼韦尔发布半导体全新热管理材料[J].新材料产业,2015,0(11):79-79.
8杨晓婵.2004年全球硅片发货情况统计[J].现代材料动态,2005(3):15-15.
9Nikon今年下半年将推出50nm步进曝光机[J].电子工业专用设备,2005,34(7):75-75.
10科学家研发制造出石墨烯-硅化物利好半导体产业发展[J].中国粉体工业,2013,0(4):49-49.

机电工程技术

2005年第8期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...

;

使用帮助返回顶部