Ti－N隔层厚度对Fe－N／Ti－N纳米多层膜磁性的影响

Influence of Thickness of Ti-N Interlayer on Magnetic Properties of Fe-N/Ti-N Nanometer Multilayer Films

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摘要用磁控溅射技术成功的制备了Ｆｅ－Ｎ／Ｔｉ－Ｎ纳米多层膜．Ｆｅ－Ｎ层厚度固定为２．２ｎｍ，Ｔｉ－Ｎ层厚度在０．５ｎｍ和４．６ｎｍ之间依次变化．由Ｘ射线衍射结果发现样品中有Ｆｅ１６Ｎ２相存在，发现Ｔｉ－Ｎ层厚度的变化，对剩磁比、饱和外场、矫顽力、饱和磁化强度（ＭＳ）有很大影响，Ｆｅ－Ｎ层之间有铁磁耦合和反铁磁耦合变化．

作者王振军顾有松常香荣田中卓肖纪美闻立时

机构地区北京科技大学材料物理系

出处《金属功能材料》 1995年第4期142-146,共5页 Metallic Functional Materials

关键词多层膜层间耦合磁性薄膜溅射

分类号 O484.43 [理学—固体物理]

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金属功能材料

1995年第4期

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