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横向磁场对真空电弧离子镀中阴极弧斑运动速度的影响 被引量:2

A STUDY OF THE VELOCITY OF THE CATHODE SPOT OF VACUUM ARC EVAPORATION IN A TRANSVERSE MAGNETIC FIELD
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摘要 本文就真空电弧离子镀中,横向磁场对阴极弧斑运动速度的影响进行了研究。实验中,用暂态波形存贮器采集阴极弧斑的光电信号。对弧斑运动速度进行测量的方法,是简单可靠的。所得结论对真空电弧离子镀这门新技术的进一步发展,即开发受拉电弧离子镀膜能提供一定的参考。 The velocity of cathode spot in a transverse magnetic field has beeninvestigated for titanium in vacuum arc evaporation.The spot velosity is easilymeasured by a optotransistor and pen-recorder.The conclusion is useful andnecessary for developing controlled arc evaporation.
作者 任侠 吴振华
出处 《电工电能新技术》 CSCD 北大核心 1989年第1期54-58,共5页 Advanced Technology of Electrical Engineering and Energy
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