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用于Ⅰ型裂纹问题的光弹性分析方法 被引量:1

Photoelastic Analysing Procedure for Mode-ⅠCrack Problems
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摘要 利用包含非奇异项的裂纹尖端弹性场解,给出了一个用于Ⅰ型裂纹问题的光弹性分析方法;与现有的方法相比,本文的方法精度更高,而取数区反而扩大了. A photoelastic analysing procedure for mode- l crack problems was presented by employing the crack tipstress field expression including nonsingular terms. Compared with other procedures available,the presentprocedure had a much higher accuracy with a relatively larger data zone.
作者 陈增涛 王铎
出处 《科技通报》 1995年第3期142-146,共5页 Bulletin of Science and Technology
关键词 Ⅰ型裂纹 光弹性 应力强度因子 裂尖 裂纹 mode-Ⅰ crack:photoelasticity stress intensity factor(SIF):crack tip:nonsingular term
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