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圆片冲击法测定硅片抗弯强度的研究 被引量:3

INVESTIGATION ON MEASURING FLEXURE STRENGTH OF SILICON WAFER BY WAFER IMPACT METHOD
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摘要 提出了一种新的使用圆片试样及冲击加载的硅片抗弯强度测试方法,结合动能定理和薄板小挠度理论推导了抗弯强度的计算公式,测试结果准确,精度好。 A test method for measuring flexure strength of silicon wafer is investigatedwhich adopts circular wafer sample and impact loading.Combining kinetic energy theoremand small deflection sheet theory,We derive the formula calculating flexure strength.Theaccuracy is satisfactory.
出处 《力学学报》 EI CSCD 北大核心 1995年第3期380-384,共5页 Chinese Journal of Theoretical and Applied Mechanics
关键词 抗弯强度 硅片 冲击载荷 弯曲试验 脆性材料 flexure strengtht silicon wafer,impact loading,sheet,small deflection
  • 相关文献

参考文献3

  • 1石志仪,半导体学报,1993年,14卷,174页
  • 2铁摩辛柯 S,板壳理论,1977年
  • 3钱伟长,弹性力学,1956年

同被引文献8

引证文献3

二级引证文献1

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