摘要
工业硅中的杂质存在状态有两种:金属(主要是Ca、AI和Fo)元素和金属氧化物。部分非金属态的石墨化微粒碳渣,在保温抬包中静置时大部分可下沉与熔硅分离、氯化形成的许多金属氯化物熔点低,挥发性高,井易于由其氧化物或碳化物生成。氯化精炼的物理作用是形成新相气泡使微粒杂质集聚成大粒渣上浮或下沉,化学作用是由杂质生成金属氯化物,但除Ca效果明显,除Al效果一般,除卜效果甚微。列表示出氯化前后硅中杂质含量。指出通氯条件是:时间20~25min,流量10001/h。
出处
《轻金属》
CSCD
北大核心
1995年第1期46-49,共4页
Light Metals