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几种石墨层间化合物溶出伏安行为的研究
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摘要
本文首次将突出伏安法用于研究H2SO4+HNO3;H2SO4+KMnO4;H2SO4+HNO3+FeCl3+KMnO4等反应介质中制取石墨层间化合物时的溶出伏安行为,发现化学法合成的GIC与电化学法合成的GIC溶出伏安说线图在反应时间短时相似,随着反应时间增长溶出伏安谱线图则有较大的差异等实验现象。
作者
陈剑平
陈宗璋
出处
《上海硅酸盐》
1995年第4期262-266,共5页
关键词
石墨
层间化合物
溶出伏安
伏安法
分类号
O657.14 [理学—分析化学]
TQ165 [化学工程—高温制品工业]
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上海硅酸盐
1995年 第4期
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