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降低多晶硅还原电耗的途径
被引量:
7
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摘要
降低多晶硅还原电耗的途径北京有色冶金设计研究总院朱骏业一、前言多晶硅是单晶硅的原料,最主要的半导体材料。多晶硅生产方法主要有改良西门子法、新硅烷及流化床法。改良西门子法是在西门子工艺的基础上发展而成的,是当今占绝对优势的生产方法,80%的多晶硅是采用...
作者
朱骏业
机构地区
北京有色冶金设计研究总院
出处
《世界有色金属》
1995年第5期41-45,共5页
World Nonferrous Metals
关键词
半导体
多晶硅
还原
节能
电能
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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苏侯香.
结晶水合物的脱水分解[J]
.吕梁教育学院学报,2007,24(1):49-50.
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探究Si与NaOH的反应[J]
.化学教育,2007,28(4):62-62.
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梁骏吾.电子级多晶硅生产工艺[J].中国工程学,2000,2(12):34-39.
6
李光明,胥福顺.邓菊莲,等.改良西门子法生产多晶硅降低生产成本的途径分析[J].中国稀土学报,2012,30:1039-1042.
7
蒋荣华.国内外多晶硅发展状况[J]半导体技术,2001(11).
8
郭幼明.多晶硅表面氧化研究[J].江苏治金(增刊),1988,(1).
9
郭晓俊,吴卫兵,刘辉,等.改良西门子法生产多晶硅还原炉内副产物的研究[J].石油化工,2010(39):1055-1057.
10
Dan Cowles, David Bollinger. Point- of- Use Sam- pling and Metal Analysis for Trichlorsilane [ R ]. SEM1CON West, 2002.
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周万礼.
多晶硅还原炉内主要残留物及清理工艺[J]
.云南化工,2013,40(5):77-79.
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5
黄开金,平述煌.
影响多晶硅生产电耗的因素及控制措施[J]
.氯碱工业,2015,51(4):26-29.
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杨志国,柯曾鹏.
多晶硅还原热能利用途径的探讨[J]
.工业技术创新,2016,3(3):318-321.
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吴燕平.
多晶硅还原炉系统余热回收利用[J]
.山东化工,2019,48(21):104-106.
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彭灯平.
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何永国,杨家成.
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.科技资讯,2013,11(11):154-154.
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谢刚,田林.
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高亚丽.
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.福建分析测试,2015,24(1):50-53.
6
杨紫琪.
改良西门子法生产电子级多晶硅质量影响因素分析[J]
.世界有色金属,2015,40(10):64-65.
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杨大锦.
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陈叮琳.
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世界有色金属
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