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磁控溅射镀铝一锌镀层工艺试验
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摘要
本文报告了不同基片偏压对磁控溅射Al-zn镀层成份的影响,用扫描电镜分析了不同偏压下沉积试样表面形貌,在3.5wt%NaCl溶液中进行了镀层试样电化学实验。
作者
鲜晓斌
任大鹏
出处
《四川真空》
1995年第2期21-23,共3页
关键词
磁控溅射
铝锌镀层
薄膜
镀层
工艺
试验
分类号
TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]
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