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投影光刻技术在大生产中的应用
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作者
范成建
机构地区
中国华晶电子集团公司双极事业部
出处
《微电子技术》
1995年第2期15-19,共5页
Microelectronic Technology
关键词
投影
光刻
投影光刻机
应用
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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1
G.Makosch,F.prein,童志义.
用于投影光刻机掩模自动对准的锁相干涉技术[J]
.电子工业专用设备,1989(1):56-63.
2
半导体技术[J]
.中国无线电电子学文摘,2005,0(4):24-31.
微电子技术
1995年 第2期
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