摘要
本文给出划分一种ＬＳＩ版图设计图形为曝光单元集的一个算法。该算法可同时获正、反两种曝光单元集，为曝光方式的选择提供了灵活性。
The glgorithm qor partitioning LSI reticle figure into exposure unit set is given,It can get both positive and negative exposure unit sets, so that,the exposure method can be agilly selected.
出处
《微细加工技术》
1995年第1期1-6,共6页
Microfabrication Technology
关键词
算法
电子束曝光
集成电路
LSI
版图
algorithm electron beam exposure
microfabrication
integrated circuit
