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Si衬底气相生长金刚石薄膜的成核机制 被引量:1

MECHANISM OF NUCLEATION OF DIAMOND FILM GROWN ON Si SUBSTRATE BY VAPOR DEPOSITION
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摘要 本文根据热力学成核理论,研究了Si衬底表面气功生长金刚石薄膜的成核机理,提出了与实验相符的理论分析。 The mechanism of diamond nucleation on Si substrates have been studied ,based on the thermodynamics nucleation theory and a model of diamond nucle-ation on Si substrates has been put forward,which is identical with the experi-ments.
作者 杨国伟
机构地区 湘潭大学物理系
出处 《微细加工技术》 1995年第2期56-59,共4页 Microfabrication Technology
关键词 SI衬底 金刚石薄膜 成核 低压气相生长 Si substrate diamond nucleation
  • 相关文献

参考文献3

二级参考文献13

  • 1Zhu W,Proc IEEE,1991年,79卷,621页
  • 2Ma H M,J Matter Res,1990年,5卷,2367页
  • 3Zhu W,J Matter Res,1989年,4卷,659页
  • 4奥尔洛夫,金刚石矿物学,1977年
  • 5毛友德,科学通报,1993年,38卷,986页
  • 6Zhu W,Proc IEEE,1991年,79卷,621页
  • 7杨国伟,功能材料,1991年,22卷,74页
  • 8埃克托瓦 L,薄膜物理,1986年
  • 9闵乃本,晶体生长的物理基础,1982年
  • 10杨国伟,高压物理学报,1994年,8卷,2期

共引文献20

同被引文献11

引证文献1

二级引证文献2

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