摘要
本文讨论了套刻误差的组成及误差模型的建立，并介绍了套刻误差的表示方法。套刻误差教学模型对于光刻机整机套刻精度的估计、对于光刻机的多机（单机）套刻匹配等工作将会是一个非常重要的工具。
In this paper,an overlay error model of stepper is introduced.this modelcan be used to estimate overlay accuracy of a stepper and overlay matching ofmultiple wafer steppers.
出处
《微细加工技术》
1995年第3期8-13,共6页
Microfabrication Technology
