期刊文献+

CVD金刚石膜研究近期进展与应用 被引量:6

原文传递
导出
摘要 简要地总结了CVD金刚石膜技术近期研究与开发情况,讨论了金刚石膜工具的热学应用、光学应用及电子学应用的现状、进展及发展趋势。金刚石膜工具的应用是近期具有最大市场的应用。但随着在沉积技术和异质外延技术的进一步突破,金刚石膜光学和电子学应用将比工具应用具有更加光明的市场前景。
作者 吕反修
出处 《物理》 CAS 北大核心 1995年第10期606-613,共8页 Physics
  • 相关文献

参考文献10

  • 1吕反修,王建军,杨保雄,陈俊,张泽勃,解思深.C60对金刚石低压气相沉积的影响[J].高技术通讯,1992,2(10):1-5. 被引量:2
  • 2吕反修,Proc of ICNDST-4,1994年
  • 3Liao X N,Phys Lett,1994年,11卷,12期,782页
  • 4钟国仿,薄膜科学与技术,1994年,7卷,2期,1页
  • 5Jiang X,Appl Phys Lett,1993年,62卷,26期,3438页
  • 6吕反修,Diamond and Related Materials,1993年,2卷,575页
  • 7李惠琪,薄膜科学与技术,1993年,3期,200页
  • 8王建军,吕反修,杨保雄.聚乙烯对低压气相沉积金刚石成核的促进作用[J].高技术通讯,1993,3(7):17-20. 被引量:1
  • 9吕反修,北京科技大学学报,1992年,14卷,2期,548页
  • 10Tzeng Y,Diamond Films and Technology,1991年,1卷,1期,31页

共引文献1

同被引文献40

  • 1马丙现,姚宁,杨仕娥,鲁占灵,樊志勤,张兵临.氢的强化刻蚀对金刚石薄膜品质的影响与sp^2杂化碳原子的存在形态[J].物理学报,2004,53(7):2287-2291. 被引量:13
  • 2张晓平,高志强,孙碧武,谢侃,林彰达.金刚石膜与Si衬底间过渡层的结构稳定性[J].物理学报,1993,42(2):309-313. 被引量:4
  • 3张保军,黄穗阳,苍风波,常静宜.低压气相生长金刚石薄膜[J].材料科学进展,1990,4(3):269-272. 被引量:4
  • 4元光,金亿鑫,金长春,宋航,张宝林,宁永强,蒋红,周天明,李树伟.在硅微尖上生长金刚石膜的研究[J].Journal of Semiconductors,1997,18(1):1-3. 被引量:7
  • 5金曾孙.金刚石薄膜的研究和进展[J].薄膜科学与技术,1995,8(3):172-176.
  • 6玄真武 戚立昌 等.金刚石薄膜界面结构的研究.金刚石薄膜研究与进展[M].北京:化学工业出版社,1991.83-86.
  • 7林彰达 孙碧武 等.从原子尺度研究金刚石薄膜的生长.金刚石薄膜研究与进展[M].北京:化学工业出版社,1991.72-77.
  • 8李胜华 张志明 等.同质外延和异质生长金刚石单晶的实验研究.金刚石薄膜研究与进展[M].北京:化学工业出版社,1991.87-91.
  • 9Sondes Sahli. Electronic characterization and fabrication of chemical vapor deposited diamond piezoresistive pressure sensors [D]. Michigan: Department of Materials,Michigan State University, 1997.
  • 10French P J, Evans A G R. Polycrystalline silicon strain sensors [J]. Sensors and Actuators A, 1985,7:135-142.

引证文献6

二级引证文献18

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部