铜在p-Si上激光诱导电沉积过程的研究
被引量：2
An Investigation on the Process of Laser Induced Electrodeposition of Copper on p-type Silicon
出处
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
1995年第8期730-733,共4页
Acta Physico-Chimica Sinica
基金
国家自然科学基金
关键词
激光
电沉积
铜
硅
光电流
p-type silicon, Laser, Electrodepositon, Copper
同被引文献26
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