期刊文献+

半导体器件纵向结构模拟工具

Simulation Technique of Vertical Structure of Semiconductor device
下载PDF
导出
摘要 介绍了半导体器件纵向结构准三维模拟方法,包括版图信息提取,二维工艺模拟等功能。该模拟器可以根据版图信息和工艺参数自动显示器件上任意切线位置处断面图,稍加修改即可用于对Si压力传感器等部分压电器件进行工艺模拟。 A quasi-three-dimension simulation approach Of semiconductor device vertical structure is described,including extraction of parameters from layout,two-dimension simulation of processing,storage of cross-section data and program fuction.This simulation can automatically display the cross sectional view of device chip along an arbitrary cut-line according to the input lay-out and processing information.
出处 《压电与声光》 CSCD 北大核心 1995年第4期35-38,共4页 Piezoelectrics & Acoustooptics
关键词 工艺模拟 半导体器件 纵向结构 结构 模拟 processing simulation,semiconductor device,vertical structure
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献1

共引文献4

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部