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硅中氢分子和空位型缺陷间的相互作用

Interaction between Hydrogen Molecule and Vacancy-Type Defects in c-Si
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摘要 利用MNDO方法和模型硅晶体计算了硅中氢分子和空位型缺陷问的相互作用能.得到了晶体硅中氢分子和空位型缺陷倾向于相互结合,含氢空位型缺陷可成为硅中氢和空位聚集的核心的结论. The energy of interaction between hydrogen molecule and vacancy-type defects in crystal-line silicon is calculated using MNDO method and a series of model silicon crystals.It is con-cluded that the hydrogen molecule and the vacancy-type defects in silicon tend to trap eachother and that the hydrogenated vacancy-type defects serve as the nuclei of precipitation for bothhydrogen and vacancy in silicon.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第7期561-563,共3页 半导体学报(英文版)
基金 国家自然科学基金
关键词 缺陷 Silicon Hydrogen Defect
  • 相关文献

参考文献2

  • 1陈燕生,第四届全国半导体集成电路及硅材料学术会议论文集,1985年
  • 2施天生,中国科学.A,1983年,12期,1121页

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