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非晶硅电子结构的EHT理论研究

Study of Electronic Structure of a-Si by EHT Method
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摘要 本文用EHT方法对Si_(47)H_(60),原子团的电子态密度性质进行了多种情况下的计算分析,计算结果表明,非晶硅与单晶硅电子态密度谱的区别主要发生在B峰与C峰之间,而不是通常所认为的A峰与B峰之间,这与Hayes的XPS实验结果一致.据我们计算分析,得出产生这一区别的主要原因是键角和二面角无序,而不是以前人们所认为的键角的单一无序. The electronic densities of state of Si_(47)H_(60) cluster in various cases have been calculated bythe EHT method.It is showed that the difference of the DOS spectrum between a-Si and c-Si largely occurs in the region between SP-like peak and P-like peak. It is believed that themain cause is the disorder of bond angle and dihedral angle.
机构地区 山东大学物理系
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第8期587-591,共5页 半导体学报(英文版)
关键词 非晶硅 电子态密度 EHT Amorphous silicon Density of electronic state EHT
  • 相关文献

参考文献3

  • 1蒋平,半导体学报,1983年,4卷,132页
  • 2张开明,物理学报,1980年,29卷,122页
  • 3王志中,半经验分子轨道理论与实践

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