摘要
本文讨论了制取均匀、致密、清洁MgO保护膜的途径及不同工艺对膜和ACPDP特性之影响。
The technology manufacturing the uniform, compact and clean protection MgO film and the effects of influencing the film and ACPDP characteristics are discussed in this paper.
出处
《真空电子技术》
北大核心
1995年第3期16-20,共5页
Vacuum Electronics