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大面积ACPDP保护膜的制备及其特性之研究 被引量:1

Study of the Manufacturing Technology and its Characterization for Large Area ACPDP Protection Film
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摘要 本文讨论了制取均匀、致密、清洁MgO保护膜的途径及不同工艺对膜和ACPDP特性之影响。 The technology manufacturing the uniform, compact and clean protection MgO film and the effects of influencing the film and ACPDP characteristics are discussed in this paper.
机构地区 杭州大学显示室
出处 《真空电子技术》 北大核心 1995年第3期16-20,共5页 Vacuum Electronics
关键词 交流等离子体显示板 氧化镁薄膜 电子束蒸发 ACPDP, MgO film, E-beam evaporation
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