Fe-N/Ti-N纳米多层膜结构和磁性研究

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摘要用磁控溅射技术制备了周期性良好的Fe－N／Ti-N纳米多层膜。Ti-N单层的厚度固定为3nm，Fe－N单层的厚度在2．5～11nm之间变化。用振动样品磁强计研究了样品的磁性，用X射线衍射研究了样品的结构。发现在Fe－N层较薄的样品中，饱和磁化强度明显提高，而矫顽力在所有样品中基本相同。

作者王振军常香荣闻立时田中卓肖纪美

机构地区北京科技大学材料物理系

出处《真空科学与技术》 CSCD 1995年第4期288-290,共3页 Vacuum Science and Technology

关键词纳米多层膜磁控溅射磁性材料

分类号 O484.8 [理学—固体物理] TM27 [一般工业技术—材料科学与工程]

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