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超高真空退火及X射线辐照对多孔硅发光膜的影响

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摘要 研究X射线及超高真空退火对发光多孔硅膜(PSL)发光特性的影响。通过光电子谱原位检测分析,发现X射线辐照及其空退火均可使发光多孔硅膜失去发光能力,同时伴随着Si2p光电子峰高结合能部分有较大的下降。根据实验结果认为:发光多孔硅中的发光物质为含氟缺氧的二氧化硅。
出处 《真空科学与技术》 CSCD 1995年第5期339-342,共4页 Vacuum Science and Technology
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献3

  • 1Xu Z Y,Appl Phys Lett,1992年,60卷,1375页
  • 2Tsai C,Appl Phys Lett,1991年,59卷,2814页
  • 3Xie Y H,J Appl Phys,1992年,71卷,2403页

共引文献4

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