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超高真空退火及X射线辐照对多孔硅发光膜的影响
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摘要
研究X射线及超高真空退火对发光多孔硅膜(PSL)发光特性的影响。通过光电子谱原位检测分析,发现X射线辐照及其空退火均可使发光多孔硅膜失去发光能力,同时伴随着Si2p光电子峰高结合能部分有较大的下降。根据实验结果认为:发光多孔硅中的发光物质为含氟缺氧的二氧化硅。
作者
季振国
陈立登
马向阳
姚鸿年
阙端麟
机构地区
浙江大学高纯硅国家重点实验室
出处
《真空科学与技术》
CSCD
1995年第5期339-342,共4页
Vacuum Science and Technology
关键词
发光
多孔硅
二氧化硅
超高真空退火
X射线辐照
分类号
TN204 [电子电信—物理电子学]
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真空科学与技术
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