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氮化硼薄膜的脉冲激光沉积 被引量:7

Pulsed Laser Deposition of Boron Nitride Films
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摘要 用Q开关YAG激光器的1.06μm的脉冲激光在硅及玻璃衬底上沉积了氮化硼薄膜。做了SEM,XRD,红外透射谱和紫外一可见透射谱等测试。确认为六方氮化硼(h-BN)薄膜.并测出其禁带宽度、晶格常数等。 Thin films of BN have been depotted on silicon and glass substrates using a Q-switched YAG laser (λ=1. 06 μm) on the basis of XRD, IR and UV-visible transmission spectra and of investiSations by SEM, the films thus preP8red were identified as h-BN films. The optical band gap and lattice costunts were determined.
出处 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第1期65-68,共4页 Chinese Journal of Lasers
基金 国家自然科学基金
关键词 氮化硼薄膜 脉冲激光沉积 薄膜 电子器件 hexagonal boron nitride film, Q-switched YAG laser, pulsed laser deposition
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