并行处理技术的发展与应用

一、概述 在计算机发展的历史中,计算机系统性能增长的根本因素有两个:一个是微电子技术,另一个是计算机体系结构技术。目前,制造大规模集成电路的工艺在实验室已经达到0.3微米,同时,砷化镓元件、约瑟夫逊元件、光元件和极化生子元件等新器件可望在90年代中期达到实用化,从而将微处理器的速度提高到更高水平。但是,极限无疑是存在的,因为晶体管的形体尺寸最终受到氢原子(最小的原子)直径尺寸的限制,同时电信号的传输速度终将受到光速(宇宙最高速度)的限制。