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摘要 0603020 SILD法沉积纳米级SnO2薄膜的结构和气体响应特性 =Structural and gas response characterization of nano-size SnO2 films deposited by SILD method [刊,英]/G. Korotcenkov, V. Macsanov//Electronics Letters. -2003, 96(3).-602-609(E)
出处 《电子科技文摘》 2006年第2期5-7,共3页 Sci.& Tech.Abstract
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