制版、光刻、腐蚀与掩模工艺

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摘要 0603475 采用毛细管电介质的介电阻挡层放电特性及其用于光刻胶蚀刻中=Characteristic of a dielectric barrier dis- charges using capillary dielectric and its application to photoresist etching[刊,英]／C．-h．Yi,Y．-h．Lee．D．W． Kim／／Electronics Letters．-2003,163．-723-727(E)

出处《电子科技文摘》 2006年第2期36-38,共3页 Sci.& Tech.Abstract

关键词掩模电介质介质材料深紫外光刻光致抗蚀剂辅料光刻胶电子束加工电子束光刻

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

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