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真空开关管CuCr触头微粒的产生
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摘要
使用一台电子扫描显微镜(SEM)和一台激光显微镜,我们观察到在机械加工过的铜铬触头表面上的微粉和粒子,这些微粉和粒子认为是由于机械加工而形成的切削瘤。在正常电流的开断及关合工作状态下,机械加工的触头表面每1cm^2产生(5.7-8.7)×10^3个微粒。一般微粒大小为几十个μm。那些大于10μm的微粒常常能看见。这意味着经机械加工的铜铬触头使用在真空断路器上时,无论如何必须进行表面处理。
作者
冉隆科
出处
《旭光技术》
1995年第3期41-45,共5页
关键词
真空开关管
真空断路器
触头
实验
微粒
分类号
TM561.206 [电气工程—电器]
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旭光技术
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