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考虑工艺参数变化的安全时钟布线算法 被引量：8

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摘要 在超深亚微米(VDSM)工艺下,由光刻工艺带来的光学邻近效应不可忽略,时钟偏差受到光学邻近效应等工艺参数变化的影响非常严重.提出了一种带缓冲器插入的安全时钟布线算法,来防止因光学邻近造成线宽变化对时钟系统的影响.该算法提出了“分支敏感因子”(BSF)的概念,通过构造特殊的树型拓扑结构和布线过程中的缓冲器插入等操作,达到总体布线长度和偏差灵敏度的平衡.实验结果表明,算法可以得到一个抗光学邻近效应工艺参数变化的可靠时钟布线树,时钟偏差被有效地控制在合理范围之内.
作者 蔡懿慈 熊焰 洪先龙 刘毅
机构地区 中国科学技术大学计算机科学与技术系 清华大学计算机科学与技术系软件研究所 清华大学计算机科学与技术系软件研究所
出处 《中国科学（E辑）》 CSCD 北大核心 2005年第8期887-896,共10页 Science in China(Series E)
基金 "八六三"国家高技术研究发展计划(2005AA1Z1230) 国家自然科学基金项目(批准号:90307017)资助项目
关键词 时钟布线 工艺参数变化 时钟偏差 分支敏感因子 缓冲器插入 时钟布线算法 光刻工艺 参数变化 安全 光学邻近效应
分类号 TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
  • 相关文献

参考文献13

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同被引文献115

引证文献8

二级引证文献6

中国科学（E辑）
2005年 第8期

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