蚀刻用等离子体的参数控制
-
1mentalman.PCB是如何制造出来的?(二)[J].微型计算机,2002(11):95-101.
-
2吴秀丽.蚀刻技术[J].光机电信息,1995,12(8):8-11.
-
3杨基南.蚀刻技术[J].微细加工技术,1994(1):45-50.
-
4友清.蚀刻多孔硅可制作全息图[J].国外激光,1993(5):31-32.
-
5张育川,张默君.新一代的蚀刻技术[J].影像科学与实践,1993(3):38-42.
-
6师庆华.宽带隙半导体GaN的快速反应原子束蚀刻[J].发光快报,1992,13(3):44-46.
-
7闫红生.浅析生产制程能力提升[J].印制电路资讯,2010(2):61-66.
-
8张一鸣.电子回旋共振(ECR)溅射技术现状[J].四川真空,1992(4):22-27.
-
9Koinu.,H,普民.微束等离子体发生器的研制和应用[J].国外核聚变与等离子体应用,1993(4):42-44.
-
10微型芯片式麦克风[J].光学精密机械,2002(3):23-23.
;