用多价离子进行原子层蚀刻
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1黄琪.氯—氢混合物中InP的RIBE[J].等离子体应用技术快报,1996(3):6-7.
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2文允监.在磁控微波等离子体中蚀刻微细接触孔[J].等离子体应用技术快报,1995(10):3-4.
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3笑生.InP通路孔的RIE[J].等离子体应用技术快报,1995(4):6-7.
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4普丁.蚀刻化学对SF6基中钨蚀刻的影响[J].等离子体应用技术快报,1996(3):18-19.
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5笑生.用Cl2对InAlAs／InP进行RBIBE[J].等离子体应用技术快报,1996(3):4-5.
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6袁晓源.等离子体处理的方法[J].等离子体应用技术快报,1995(5):3-4.
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7宏声.蚀刻技术的发展现状[J].等离子体应用技术快报,1995(6):1-3.
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8孙再吉.采用陶瓷衬底来提高GaN HEMT性能[J].半导体信息,2006,0(3):14-14.
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9周华.GaN的高速磁控反应离子蚀刻[J].发光快报,1995,16(5):36-37.
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10张正模.对ECR源蚀刻GaAs引起的表面损伤的评估[J].等离子体应用技术快报,1996(4):16-17.
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