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紫外激光SiO_2减反膜的制备 被引量:11

Preparation of Silica Antireflective Coating for UV-Laser
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摘要 介绍溶胶-凝胶法制备SiO2减反膜的溶液配制,基片清洗和膜层制备过程,利用正硅酸乙酯的碱性催化水解,通过浸入移液法在石英透镜的表面涂敷一层多孔SiO2减反膜,涂膜后石英透镜的透过率在350um波长处达到98.0%以上。 The preparation of silica antireflective coating through sol- gel process is discussed involving the composition of coating solution, cleaning of substrate and coating process. The porous silica film can be deposited on the silica lens by dipping from the solution, with the base catalyzed hydrolyzation of tetraeathyl silicate (TEOS ) in anhydrous ethyl alcohol. The transmission of coating on the silica lens is 98. 3 % at 350nm, and the peak transmission is over 99. 0%.
出处 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第7期998-1001,共4页 Acta Optica Sinica
基金 国家激光青年科学基金 中国工程物理研究院国防科技预研基金
关键词 紫外激光 减反膜 溶胶-凝胶法 激光器 sol-gel process, antireflective coating, UV-laser
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参考文献3

共引文献11

同被引文献100

引证文献11

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