以多孔二氧化硅为基底的抗反射薄膜光学性能的研究

抗反射薄膜在宽光谱波段和在各种基板上应用,首先要有可靠的方法获得极低折射率N的结构,其次是薄膜特性在时间上的稳定性,正如在实际上表明的,通过一定的时间这些薄膜开始失去本身的低反射性能.不获得关于所得到的薄膜的信息,上述问题就不能成功地解决.所得薄膜的高气孔率加上另外的困难,这同考虑处在薄膜多孔空间的成分本质有关,由多孔二氧化硅做的抗反射薄膜的研究首先在其光学性能—光谱反射率R(λ)和透过率T(λ)方面进行.在基板上的多孔薄膜的研究可用不同的方法,其中最合适的方法是椭圆对称吸收法,它既能确定薄膜的光学性能,又能确定薄膜的气孔率.