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半导体制造工艺中的静电问题
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摘要
随着半导体器件的微细化设计的进展,我们必须极深刻的地重新认识静电问题,因此。本文在过去半导体制造工艺中的静电问题基础上,结合国内外的文献资料,主要介绍静电问题的所在及其概况。
作者
藤江明雄
出处
《LSI制造与测试》
1996年第3期10-14,共5页
关键词
半导体制造
工艺
静电
测量
设计
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
TN307 [电子电信—物理电子学]
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LSI制造与测试
1996年 第3期
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