摘要
由于电子束曝光机采用的修正技术,工件台的测量系统显得十分重要。介绍了电子束曝光机激光定位精密工件台的工作原理,其测量系统首次采用国际先进的HP5527双频激光干涉仪。对测量系统进行了详细的误差分析,在此基础上提出了系统误差的补偿方法。
Measurement system of precision stage shows its important role for the correction technology of E-Beam lithography machine. The HP 5527 laser measurement system is used for the stage and the working principle is introduced. Based on the detailed error analysis the compensation method of systemic error is presented.
出处
《电子工业专用设备》
2005年第10期19-23,共5页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
基金
中国科学院知识创新工程重大项目资助(H2K0206)
关键词
激光干涉仪
工件台
电子束曝光机
误差分析
Laser interferometer
stage
E-Beam lithography machine
Error analysis
